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          美國(guó)*MKS流量計(jì)馬鞍山

          更新時(shí)間: 2019-08-26  點(diǎn)擊次數(shù): 1179次

          美國(guó)*MKS流量計(jì)馬鞍山


          我司做mks各類(lèi),包括MKS泵,MKS電磁閥,MKS真空泵,MKS馬達(dá)等等,所有的全部都是從美國(guó)*回來(lái)!我們?cè)诿绹?guó)華盛頓有,所以有需要這個(gè)品牌的客戶請(qǐng)!我們有的銷(xiāo)售人員可以為您服務(wù)!

          美國(guó)*MKS流量計(jì)馬鞍山
          經(jīng)營(yíng)美國(guó)MKS流量計(jì)、MKS薄膜真空計(jì)、MKS流量控制閥,如您對(duì)該感興趣,歡迎!MKS成立于1961年,部位于美國(guó)東部波士頓以北的Wilmington。近三千名員工工作在各地十三個(gè),七個(gè)研究中心,十個(gè)生產(chǎn)基地(其中深圳的ENI電源擁有近500員工)及140多個(gè)銷(xiāo)售和30多個(gè)技術(shù)服務(wù)中心。MKS前瞻性的創(chuàng)新開(kāi)發(fā),推動(dòng)其直處于技術(shù)地位。MKS的電源,測(cè)量,控制和復(fù)雜氣體相關(guān)的工藝監(jiān)控技術(shù),改善了設(shè)備完率和成品率,提高了生產(chǎn)產(chǎn)量和性能。MKS起源于我們的壓力測(cè)量和控制核心技術(shù),延伸到材料遞送,氣體和薄膜成分分析,靜電荷控制,工藝控制,信息管理,電源和反應(yīng)氣體發(fā)生器及真空技術(shù)。MKS主要提供有:氣體壓力及流量測(cè)量和控制,射頻/直流/微波電源發(fā)生器及測(cè)量工具,氟離子/臭氧反應(yīng)氣體發(fā)生器,真空,氣體分析儀,靜電控制及信息和控制技術(shù)等。
          美國(guó)MKSINSTRUMENTS成立于1961年,作為半導(dǎo)體零部件的,在氣體、真空儀器及制程控制應(yīng)用等方面有技術(shù)到之處,美*機(jī)儀器MKSInstruments起源于壓力測(cè)量和控制核心技術(shù),延伸到材料遞送、氣體成分分析、靜電荷控制、工藝控制、信息管理、電源和反應(yīng)氣體發(fā)生器及真空技術(shù),其廣泛地應(yīng)用于各種半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備和過(guò)程中。MKS流量計(jì)能快速滿足客戶各種需求;美國(guó)MKS包括:美國(guó)MKS流量計(jì)、MKS薄膜真空計(jì)、MKS流量控制閥。
          美國(guó)MKS流量計(jì)、MKS薄膜真空計(jì)、MKS控制閥。美國(guó)MKSINSTRUMENTS成立于1961年,作為半導(dǎo)體零部件的,在氣體、真空儀器及制程控制應(yīng)用等方面有技術(shù)到之處,美*機(jī)儀器MKSINSTRUMENTS起源于壓力測(cè)量和控制核心技術(shù),延伸到材料遞送、氣體成分分析、靜電荷控制、工藝控制、信息管理、電源和反應(yīng)氣體發(fā)生器及真空技術(shù),其廣泛地應(yīng)用于各種半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備和過(guò)程中。MKS流量計(jì)是以單位時(shí)間內(nèi)壓力體積的流量方式來(lái)控制氣體質(zhì)量流量的測(cè)量?jī)x器。MKS薄膜真空計(jì)、MKS流量控制閥、MKS流量計(jì)廣泛應(yīng)用在半導(dǎo)體行業(yè),鍍膜玻璃,醫(yī)藥制藥行業(yè),生物工程行業(yè),適合各種氣體媒介,SICL4硅烷氣體等。美國(guó)MKS流量計(jì)、MKS薄膜真空計(jì)、MKS傳感器、MKS射頻/直流/微波電源發(fā)生器MKS氟離子/臭氧反應(yīng)氣體發(fā)生器MKS真空,MKS氣體分析儀。美國(guó)MKS是zui的生產(chǎn)工藝控制設(shè)備之,成立于1961年,部位于美國(guó)東部波士頓以北的Wilmington。近三千名員工工作在各地十三個(gè),七個(gè)研究中心,十個(gè)生產(chǎn)基地。

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          美*機(jī)儀器MKSINSTRUMENTS成立于1961年,作為半導(dǎo)體零部件的,在氣體、真空儀器及制程控制應(yīng)用等方面有技術(shù)到之處,美*機(jī)儀器MKSINSTRUMENTS起源于壓力測(cè)量和控制核心技術(shù),延伸到材料遞送、氣體成分分析、靜電荷控制、工藝控制、信息管理、電源和反應(yīng)氣體發(fā)生器及真空技術(shù),其廣泛地應(yīng)用于各種半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備和過(guò)程中。美*機(jī)儀器MKSINSTRUMENTS在的主要有AMEC、NMC、SMIC、HYNIX等,針對(duì)300MM半導(dǎo)體市場(chǎng);而美*機(jī)儀器MKSINSTRUMENTS的半導(dǎo)體設(shè)備零部件的研發(fā)和也主要針對(duì)300MM半導(dǎo)體工藝要求。同時(shí),美*機(jī)儀器MKSINSTRUMENTS還在積極開(kāi)發(fā)太陽(yáng)能、環(huán)境工程和玻璃鍍膜等快速發(fā)展的市場(chǎng)。美*機(jī)儀器MKSINSTRUMENTS電源、測(cè)量、控制和復(fù)雜氣體相關(guān)的工藝監(jiān)控技術(shù)等改善了設(shè)備的完率和成品率,提高了生產(chǎn)產(chǎn)量和性能,美*機(jī)儀器MKSINSTRUMENTS目前主要包括:壓力測(cè)量和控制系列的電容薄膜壓力傳感器、模擬和數(shù)字壓力控制儀器和閥等提供半導(dǎo)體工藝上、下游壓力控制設(shè)備;質(zhì)量流量控制器測(cè)量和控制半導(dǎo)體工藝中各種高純度、高精度氣體流量;射頻、直流及脈沖等離子電源、匹配器及測(cè)試工具為半導(dǎo)體工業(yè)提供了的固態(tài)電源;ASTEXI系列提供諸如用于工藝腔清潔的ASTRON氟離子發(fā)生器,用于去膠工藝的R*EVOLUTION等離子源,用于CVD、ALD和清洗的SEMOZON氣態(tài)和LIQUOZON液態(tài)臭氧發(fā)生器;另外美*機(jī)儀器MKSINSTRUMENTS還提供廣泛的真空、氣體分析儀、靜電控制、控制及信息技術(shù)等系列。
           

           

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